4006-635-996,010,69200960
產品簡介
高真空單輥旋淬及噴鑄系統--XC500真空室結構:圓筒形前開門真空室尺寸:φ500X300mm極限真空度:≤6.67E-5Pa沉積源:樣品尺寸，溫度:感應熔煉10克純鐵樣品，在30秒鐘內化占地面積(長x寬x高):約2.7米x1.4米x2米電控描述:手動工藝:不含工藝特色參數: 高速輥輪線速度0-50m/s可調;坩堝手動直線進給機構;條帶接收器:Ф125x1500
高真空單輥旋淬及噴鑄系統--XC500
真空室結構:圓筒形前開門
真空室尺寸:φ500X300mm
極限真空度:≤6.67E-5Pa
沉積源:
樣品尺寸，溫度:感應熔煉10克純鐵樣品，在30秒鐘內化
占地面積(長x寬x高):約2.7米x1.4米x2米
電控描述:手動
工藝:不含工藝
特色參數: 高速輥輪線速度0-50m/s可調;坩堝手動直線進給機構;條帶接收器:Ф125x1500mm
產品概述:
系統主要由感應熔煉真空室、轉動門、單輥旋淬裝置、感應熔煉機構、手動直線進給機構、噴鑄系統、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。
設備用途:
高真空單輥旋淬及噴鑄系統是用來制備和開發亞穩材料(如非晶態材料)的專用設備，該設備具有制備金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作，廣泛用于新型稀土永磁材料、非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究。
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