4006-635-996,010,69200960
產品簡介
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700真空室結構: U形前開門真空室尺寸:700x700x900mm極限真空度:≤6.6E-5Pa沉積源:6個40cc坩堝樣品尺寸，溫度:4英寸，26片，最高300℃C占地面積(長x寬x高):約3.2米x3.9米x2.1米電控描述:全自動工藝:片內膜厚均勻性:≤3%特色參數: 工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根據用戶基片尺
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700
真空室結構: U形前開門
真空室尺寸:700x700x900mm
極限真空度:≤6.6E-5Pa
沉積源:6個40cc坩堝
樣品尺寸，溫度:4英寸，26片，最高300℃C
占地面積(長x寬x高):約3.2米x3.9米x2.1米
電控描述:全自動
工藝:片內膜厚均勻性:≤3%
特色參數: 工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根據用戶基片尺寸設計工件架
產品概述：
系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成，體現立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環境，其余部分（含低溫泵抽系統）處在相對要求較低超凈環境。
設備用途：
本系統配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要。
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